Teknologi 14 nm Intel®

Teknologi 14 nm Intel®

  • Digunakan untuk memproduksi produk berkinerja tinggi dan rendah daya

  • Proses berkualifikasi yang digunakan dalam produksi volume

BUILT IN - ARTICLE INTRO SECOND COMPONENT

Dengan menggunakan transistor tri-gate 3D generasi ke-2, teknologi 14 nm memberikan kinerja, daya, densitas, dan biaya per transistor yang luar biasa, dan digunakan untuk memproduksi berbagai produk, dari kinerja tinggi hingga rendah daya.

Perangkat Ultra-Cepat Hemat Energi yang Didukung Intel

Mendukung berbagai produk dari perangkat genggam hingga server, transistor 14 nm meningkatkan kinerja dan mengurangi rugi daya. Teknologi 14 nm Intel® digunakan untuk memproduksi berbagai produk dengan kinerja tinggi hingga produk rendah daya termasuk server, perangkat komputasi pribadi, dan produk untuk Internet of Things.

Tonton Intel Fellow Mark Bohr menerangkan proses transistor 14 nm baru dan bagaimana sirip tri-gate sekarang lebih tinggi, lebih tipis, dan lebih dekat satu sama lain, sehingga memungkinkan kinerja yang lebih baik, daya aktif yang berkurang, dan masa pakai baterai lebih lama untuk lebih meningkatkan pengalaman berkomputasi.

Teknologi 14 nm Intel® memberikan penyesuaian dimensi yang baik dari 22 nm. Sirip transistor lebih tinggi, lebih tipis, dan berdekatan satu sama lain untuk memperoleh peningkatan densitas dan pengurangan kapasitansi. Transistor yang lebih baik memerlukan sirip yang lebih sedikit, yang semakin meningkatkan densitas, dan ukuran sel SRAM hampir separuh area dalam 22 nm.

Proses 14 nm dan produk sistem dalam -chip (SoC) yang terdepan dari Intel kini memenuhi syarat dan sedang diproduksi, dengan pabrik di Oregon (2014), Arizona (2014), dan Irlandia (2015).